在高端量子點顯示（Quantum Dot Display）噴墨制程中，噴墨工藝精度（Inkjet Process Precision）是制約像素成型一致性與畫面色彩性能的核心要素。微滴容積（Micro Droplet Volume）作為噴墨制程的關鍵核心參數，其數值穩定性、均勻性直接決定基板成膜厚度、像素色準（Color Accuracy）與發光均勻度。微滴容積出現微尺度偏差，極易引發像素色差、膜層厚薄不均、局部虛亮或暗點等制程缺陷，嚴重影響顯示面板整體品質與量產良率，因此對微滴容積參數實施高精度檢測與標準化管控，是精細化噴墨工藝管控的核心環節。
量子點墨水（Quantum Dot Ink）含有納米光電功能顆粒，具備獨特的流變特性，其動態粘度（Dynamic Viscosity）、表面張力（Surface Tension）易受噴頭驅動波形（Inkjet Drive Waveform）、環境溫濕度及噴頭狀態影響，量產過程中易出現微滴容積離散、衛星滴（Satellite Droplet）、噴射斷墨、微滴畸形等異常工況。傳統稱重法、二維光學成像檢測方式分辨率較低，無法精準識別皮升級（pL）微容積偏差，檢測誤差較大，難以滿足微納尺度噴墨工藝的高精度質控需求。
白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）依托高精度白光干涉原理，可實現非接觸式、無損化的微尺度形貌與容積檢測。設備通過采集基板表面沉積微滴的三維微觀形貌，結合干涉條紋解析與三維重構算法，精準測算微滴容積（Micro Droplet Volume）、局部膜厚、輪廓粗糙度等核心工藝參數，可高效捕捉傳統檢測方式無法識別的微量容積超差與成型缺陷，檢測精度可達納米級，實現工藝參數的精準標定與數據溯源。
在實際生產管控中，可依托白光干涉儀完成RGB三色量子點噴墨微滴容積的常態化檢測與參數校準，建立標準化工藝閾值體系，聯動優化噴墨驅動電壓、噴射頻率等核心參數，構建高精度閉環質控體系。通過精準鎖定微滴容積參數偏差，持續優化噴墨工藝精度，有效降低制程不良率，穩定量子點像素成型品質，全面提升顯示面板色彩一致性與量產穩定性。新啟航 專業提供綜合光學3D測量方案
大視野3D白光干涉儀 - 全域測量解決方案（工業及半導體專用）
突破傳統測量局限，定義精密測量（Precision Measurement）新范式！大視野3D白光干涉儀憑借核心創新技術，實現納米級（Nanoscale）全場景測量，以高效、精準的優勢，重新詮釋工業測量（Industrial Measurement）的高效與精密，為半導體（Semiconductor）、光學及各類精密部件檢測提供全方位技術支撐，適配多領域嚴苛測量需求。
四大核心技術革新（工業級標準，適配半導體場景）
一、大視野+高精度，打破行業常規
打破傳統設備局限，1倍以下物鏡（Objective Lens）可實現多場景適配，無需分開配備設備即可兼顧大視野觀測與高精度測量（High-Precision Measurement）。設備搭載全新0.6倍輕量化鏡頭，擁有14mm超大單幅視野（Single Frame Field of View），搭配可兼容4個物鏡的轉塔設計（Turret Design），一臺設備即可全面覆蓋大視野觀測與高精度測量需求，適配各類復雜樣品檢測場景，無需頻繁切換設備，大幅提升檢測效率（Inspection Efficiency）與數據精準度（Data Accuracy）。
（以上為實測14mm端面平面度（Flatness），精準把控部件平面精度，為半導體器件、精密光學部件后續測量提供可靠基礎）
（以上為實測數據：6pm=0.006nm，精準表征表面粗糙度（Surface Roughness, Ra/Rz），滿足半導體芯片、超精密部件的超精密測量需求）
二、80°傾斜測量，突破平面限制
打破“白光干涉僅能測量平面”的行業認知，憑借領先的高角度測量技術（High-Angle Measurement Technology），可輕松應對80°陡峭斜面、錐面的測量需求，兼容度拉滿。一臺設備即可搞定全場景測量，無需額外配備專用測量儀器，進一步拓寬測量適用范圍，適配半導體封裝（Semiconductor Packaging）、精密機械加工等領域的異形部件檢測。
三、真彩色3D測量，解鎖全新體驗
突破行業技術瓶頸，在保留黑白CMOS干涉條紋解析能力的基礎上，實現RGB三原色真彩色成像（True Color Imaging），打破傳統白光干涉儀僅能呈現黑白畫面的局限。清晰呈現樣品形貌（Sample Morphology）與色彩細節，測量信息更全面、分析更直觀，讓測量數據更具參考價值，適配半導體器件表面缺陷檢測（Surface Defect Detection）等精細場景。
四、上下平面平行度測量，適配多場景需求
采用獨特光路設計（Optical Path Design），可實現非透明產品的厚度（Thickness）與上下平面平行度（Parallelism）測量，適配各類非透明精密部件、半導體多層結構器件的測量需求，進一步拓展設備適用場景，提升測量通用性（Versatility），降低多設備投入成本（Equipment Investment Cost）。
摩擦表面表征測量案例（工業及半導體領域專屬）
不同潤滑油摩擦試驗對比：測量摩擦表面的劃痕深度（Scratch Depth）、磨損面積（Wear Area），直觀呈現不同潤滑油的潤滑效果差異，為工業設備潤滑系統優化、半導體設備傳動部件保養提供數據支撐。
曲面滾軸摩擦表面測量：原始曲面滾軸摩擦表面無法量化測量結果，經曲面矯平（Surface Flattening）處理后，可精準完成摩擦量（Wear Amount）測量與評估，適配機械傳動部件（Mechanical Transmission Components）、半導體設備滾輪質檢場景。
激光鉆孔工藝后摩擦表面表征：對激光鉆孔（Laser Drilling）工藝后的摩擦試驗表面進行紋理檢測（Texture Detection），精準分析工藝參數對摩擦表面粗糙度、平整度（Flatness）的影響，適配半導體封裝（Semiconductor Packaging）、精密機械加工等領域。
汽車部件及半導體器件摩擦表面粗糙度測量：針對汽車各類摩擦部件，以及半導體器件接觸摩擦面，實現粗糙度（Ra/Rz）精準檢測，為部件質量把控（Quality Control）、半導體產品可靠性（Reliability）驗證提供權威數據支撐。
新啟航半導體，專業提供綜合光學3D測量解決方案（Integrated Optical 3D Measurement Solution），以核心技術賦能精密測量、半導體表征（Semiconductor Characterization）、工業質檢（Industrial Quality Inspection）等各類場景，助力各行業實現高質量發展與產品迭代升級！