白光干涉儀高精度檢測技術(shù) 嚴控光伏激光劃線深度與薄膜分層良率
發(fā)布時間:
2026-05-28
作者:
新啟航半導體有限公司

一、光伏量產(chǎn)檢測痛點

薄膜光伏量產(chǎn)的核心工序為P1/P2/P3激光結(jié)構(gòu)化劃線,是實現(xiàn)電池單片互聯(lián)的關(guān)鍵工藝。光伏薄膜為多層堆疊結(jié)構(gòu),生產(chǎn)過程中易出現(xiàn)劃線深度異常、膜層剝離不均、溝槽側(cè)壁殘缺等缺陷,進而引發(fā)組件漏電、界面接觸電阻升高、膜層分層脫落等問題,直接降低電池填充因子與量產(chǎn)良率,制約光伏規(guī)模化量產(chǎn)落地。

傳統(tǒng)檢測依賴臺階儀單點抽檢模式,存在檢測效率低、覆蓋范圍有限的短板,無法識別薄膜微觀分層、微小過刻、淺刻等隱性缺陷,難以滿足產(chǎn)線全流程、全維度質(zhì)量管控需求。



二、白光干涉儀檢測方案優(yōu)勢

大視野3D白光干涉儀基于光學3D干涉成像技術(shù),采用非接觸式無損檢測方式,可納米級精準采集激光劃線溝槽深度、剖面形貌、薄膜平整度等核心數(shù)據(jù),精準甄別微米級薄膜分層及各類工藝隱患。

設(shè)備可量化多層薄膜分層狀態(tài),實時反饋激光功率、掃描速度等工藝參數(shù)偏差,輔助產(chǎn)線精準校準工藝參數(shù),匹配不同功能薄膜刻蝕閾值,有效規(guī)避刻蝕熱損傷、層間剝離等質(zhì)量問題。量產(chǎn)實測數(shù)據(jù)驗證,該檢測方案可顯著提升薄膜劃線一致性,大幅降低膜層分層不良率,穩(wěn)定組件量產(chǎn)良率與光電轉(zhuǎn)換性能。


白光干涉儀高精度檢測技術(shù) 嚴控光伏激光劃線深度與薄膜分層良率

三、設(shè)備核心技術(shù)革新(工業(yè)半導體級)

  1. 大視野融合高精度,突破傳統(tǒng)測量局限

白光干涉儀高精度檢測技術(shù) 嚴控光伏激光劃線深度與薄膜分層良率

打破傳統(tǒng)檢測設(shè)備視野與精度無法兼顧的行業(yè)痛點,搭載0.6倍輕量化專用鏡頭,實現(xiàn)15.5mm超大單幅檢測視野,搭配四物鏡兼容轉(zhuǎn)塔設(shè)計,一臺設(shè)備即可覆蓋大視野觀測、納米級高精度測量雙重需求,無需頻繁切換設(shè)備,大幅提升產(chǎn)線檢測效率與數(shù)據(jù)準確性。

相較于激光共聚焦設(shè)備高倍鏡頭視野狹小、僅能局部檢測的短板,該設(shè)備可實現(xiàn)大視野全域掃描+納米級精度測量,適配光伏薄膜、半導體精密部件、光學器件等復(fù)雜樣品檢測場景。


白光干涉儀高精度檢測技術(shù) 嚴控光伏激光劃線深度與薄膜分層良率

2. 超精密測量能力,適配高端制程

設(shè)備可達6pm(0.006nm)超高測量精度,可精準表征工件表面粗糙度(Ra/Rz)、端面平面度等微觀參數(shù),完全滿足半導體芯片、超精密光學部件、光伏功能薄膜的嚴苛測量標準,為精密制程質(zhì)控提供可靠數(shù)據(jù)支撐。


白光干涉儀高精度檢測技術(shù) 嚴控光伏激光劃線深度與薄膜分層良率

四、行業(yè)應(yīng)用定位

新啟航專注提供一體化光學3D測量解決方案,依托白光干涉核心技術(shù),賦能精密測量、半導體表征、工業(yè)質(zhì)檢、光伏量產(chǎn)質(zhì)控等場景,助力各行業(yè)實現(xiàn)制程優(yōu)化與產(chǎn)品迭代升級。


參考文獻

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