微透鏡面形精度工藝異常依托白光干涉儀快速溯源整改、
發布時間:
2026-05-30
作者:
新啟航半導體有限公司

一、行業工藝痛點

微透鏡是光學成像、光伏聚光、傳感模組的核心微型光學元件,其面形精度(Surface Figure)直接決定光學系統透光率、聚焦精度與成像品質。量產注塑、光刻、熱熔成型工藝中,易出現面形畸變、曲率偏差、表面波紋、局部塌陷等工藝缺陷。傳統顯微觀測、輪廓儀僅可采集二維數據,無法識別微納級面形誤差,難以精準定位異常成因,存在產品不良率高、工藝調試周期長、量產成本偏高的行業痛點。

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二、白光干涉儀檢測原理與溯源優勢

白光干涉儀基于光學干涉原理,采用非接觸無損檢測方式,符合ISO、國標光學元件檢測規范,具備超高三維形貌解析能力。設備可全域掃描微透鏡表面,精準量化面形精度、曲率半徑、表面粗糙度、PV峰值谷值、RMS均方根值等核心指標,完整還原三維面形誤差分布。

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依托標準化檢測數據,可精準區分模具磨損、成型溫度異常、固化不均等不同制程缺陷根源,解決傳統檢測方式溯源模糊的問題,為產線工藝整改、參數優化提供合規、可溯源的數據支撐,適配半導體微透鏡、DOE衍射光學元件的量產質量管控需求。

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三、設備核心技術優勢

大視野3D白光干涉儀專為工業、半導體精密光學檢測研發,突破傳統設備技術局限,無需兩臺設備分別實現大視野觀測與高精度測量。設備搭載0.6倍輕量化鏡頭,配備15mm超大單幅視野,兼容四物鏡轉塔鼻輪,單設備即可覆蓋全域檢測需求。檢測精度可達皮米級,表面粗糙度檢測精度達6pm(0.006nm),可穩定實現納米級、亞納米級精密測量,大幅提升量產檢測效率與數據統一性。

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四、實測應用場景

設備可精準檢測微透鏡、DOE衍射光學元件等精密光學部件,可實測輸出平面度誤差、PV、RMS、表面粗糙度Ra等關鍵參數,嚴格匹配半導體光學器件精度標準,有效規避表面缺陷、光學損耗問題,保障光學系統成像精度與使用穩定性。

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五、參考文獻

[1] 國家市場監督管理總局, 國家標準化管理委員會. GB/T 41869.4-2024 光學和光子學 微透鏡陣列 第4部分:幾何特性測試方法[S]. 北京:中國標準出版社,2024.

[2] 國家市場監督管理總局, 國家標準化管理委員會. GB/T 39064-2020 產品追溯信息管理規范[S]. 北京:中國標準出版社,2020.

[3] ISO 25178 幾何產品規范(GPS)—表面結構輪廓法[S]. 國際標準化組織,2012.

[4] ISO 14999 光學和光子學 光學元件面形誤差干涉測量規范[S]. 國際標準化組織,2018.

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