光學(xué) 3D 輪廓儀精準(zhǔn)測量 MLCC 銀漿厚度(Silver Paste Thickness),筑牢疊層電容生產(chǎn)基礎(chǔ)(Production Foundation)
發(fā)布時(shí)間:
2026-06-27
作者:
新啟航半導(dǎo)體有限公司

多層陶瓷電容器(Multi-Layer Ceramic Capacitor, MLCC)是電子制造核心被動(dòng)元器件,端電極銀漿(Silver Paste)的涂布厚度與均勻度,直接決定器件焊接穩(wěn)定性、電氣性能與服役壽命,是MLCC量產(chǎn)制造(Mass Production)核心質(zhì)量管控工序。當(dāng)前008004超微型MLCC規(guī)模化應(yīng)用,傳統(tǒng)接觸式測厚、二維視覺檢測方式,易引發(fā)微型坯體損傷、邊緣數(shù)據(jù)失真等問題,無法滿足納米級精密質(zhì)控要求。

光學(xué) 3D 輪廓儀精準(zhǔn)測量 MLCC 銀漿厚度(Silver Paste Thickness),筑牢疊層電容生產(chǎn)基礎(chǔ)(Production Foundation)

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光學(xué)3D輪廓儀(3D Optical Profiler)搭載白光干涉(White Light Interferometry, WLI)、光譜共焦(Spectral Confocal Technology)主流工業(yè)成熟技術(shù),采用非接觸式檢測架構(gòu),可徹底規(guī)避接觸檢測對微型MLCC結(jié)構(gòu)的物理損傷。依據(jù)設(shè)備廠商公開官方參數(shù),該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)納米級高度分辨率,穩(wěn)定覆蓋80nm至350μm銀漿厚度檢測區(qū)間,可精準(zhǔn)采集銀漿涂層三維形貌、膜厚均勻性、邊緣爬坡輪廓等關(guān)鍵工藝參數(shù),檢測精度可達(dá)±0.02%F.S.,適配精密涂布工藝質(zhì)控標(biāo)準(zhǔn)。

光學(xué) 3D 輪廓儀精準(zhǔn)測量 MLCC 銀漿厚度(Silver Paste Thickness),筑牢疊層電容生產(chǎn)基礎(chǔ)(Production Foundation)

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在量產(chǎn)工況中,該設(shè)備可彌補(bǔ)自動(dòng)光學(xué)檢測(Automatic Optical Inspection, AOI)二維檢測盲區(qū),精準(zhǔn)識別銀漿薄涂、厚涂、局部缺料、涂布不均等典型缺陷,實(shí)現(xiàn)MLCC端電極涂布工藝全維度閉環(huán)質(zhì)控。通過精準(zhǔn)把控銀漿厚度一致性,可有效保障MLCC疊層結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,降低制程不良率,夯實(shí)高端精密電子元器件量產(chǎn)質(zhì)量基礎(chǔ),適配消費(fèi)電子、新能源、半導(dǎo)體等高精尖領(lǐng)域的嚴(yán)苛供貨標(biāo)準(zhǔn)。

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新啟航半導(dǎo)體|專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障,支持自動(dòng)化定制;高端系列對標(biāo)國際一線品牌,大視野設(shè)計(jì),輕松應(yīng)對高低反射、復(fù)雜材料測量場景。


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