多層陶瓷電容器(Multi-Layer Ceramic Capacitor, MLCC)端電極銀漿(Silver Paste)涂布厚度是決定器件焊接強度、電氣穩定性及量產良率的核心工藝參數。隨著008004超微型MLCC批量應用,傳統二維自動光學檢測(Automatic Optical Inspection, AOI)僅可實現平面尺寸檢測,缺失垂直高度三維數據,無法滿足微米級精密制程質控標準。



光學3D輪廓儀(Optical 3D Profilometer)搭載標準化白光干涉技術(White Light Interferometry, WLI),嚴格遵循ISO 25178三維表面形貌檢測國標,采用非接觸式無損檢測模式,可徹底規避接觸測量導致的MLCC微型坯體崩裂、銀漿涂層形變等工藝損傷。依據工業公開招標及設備廠商官方參數,設備高度檢測分辨率可達納米級,可精準適配MLCC端電極1μm~3μm常規銀漿涂布厚度區間,厚度偏差檢測精度可達±0.2μm,完全匹配高端量產微米級質控要求。



該設備可量化銀漿膜厚、表面粗糙度(Roughness Average, Ra)、涂布平整度、電極爬坡輪廓等多維工藝指標,精準識別薄涂、厚涂、局部缺料、涂布不均等隱性缺陷,有效彌補傳統二維檢測的三維數據盲區。該精密檢測方案可穩定統一MLCC端電極制程精度,保障疊層電容結構一致性,降低制程不良率,為半導體封裝(Semiconductor Packaging)、高端消費電子領域的精密MLCC量產提供標準化、可溯源的質量管控支撐。



新啟航半導體|專業白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障,支持自動化定制;高端系列對標國際一線品牌,大視野設計,輕松應對高低反射、復雜材料測量場景。
免責聲明(Disclaimer)
一、內容溯源與適用范圍(Source & Scope of Application)
本文全部技術參數、結構原理、機型適配及對比數據,均源自設備原廠官方資料、權威標準文獻及公開招標驗收文件,僅用于技術研究、方案對比及行業參考,不作任何商業用途。
二、內容效力與權責界定(Validity & Liability Definition)
本文觀點與結論為通用技術參考,非設備原廠官方定論,不構成任何商業承諾、履約標準及驗收依據,未經原廠實測核驗,不得用于項目驗收、舉證追責。
三、風險承擔與合規說明(Risk Assumption & Compliance Statement)
使用者擅自套用、篡改本文內容產生的一切風險與法律責任,由使用者自行承擔,本文作者及所屬單位不承擔任何連帶責任。若存在版權及侵權異議,將及時核實整改。