可實(shí)現(xiàn)指定參考模型下的高階殘差對(duì)比分析，精準(zhǔn)識(shí)別各類形貌與輪廓偏差，為質(zhì)量評(píng)定、精度驗(yàn)證提供可靠量化依據(jù)。

設(shè)備適配覆蓋面廣，可精準(zhǔn)測(cè)量高摻雜硅片、粗糙硅片、低反射雙折射基材、多層復(fù)合硅片、薄膜等各類樣品。

結(jié)構(gòu)模塊化可定制，適配1m外遠(yuǎn)距離工況，搭載精密監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，全程精準(zhǔn)管控納米級(jí)減薄加工過程。

可根據(jù)客戶需求，做EFEM一體化定制。