• 公司新聞
• 行業動態
• 企業黨建

03

2026

-

06

白光干涉儀在鈣鈦礦光伏激光劃線工藝的精密測量應用

一、鈣鈦礦光伏激光劃線死區損耗痛點鈣鈦礦光伏組件規?；慨a中，P1-P2-P3激光劃刻工藝形成的溝槽區域為電池發電死區，僅承擔電路隔離與導通作用，無光電轉換能力，...

02

2026

-

06

微透鏡表面粗糙度白光干涉解析及工藝優化方案

一、行業痛點與檢測瓶頸表面粗糙度是決定微透鏡透光率、抗散射性能與成像精度的核心指標，廣泛應用于半導體、精密光學領域的微透鏡，多通過注塑、模壓、納米壓印工藝成型。生...

02

2026

-

06

白光干涉儀超光滑樣品微觀缺陷識別與晶圓檢測技術應用

一、超光滑樣品加工檢測痛點超光滑樣品廣泛應用于精密光學器件、半導體基底、激光傳輸元件等高端制造領域，其加工質量直接決定器件光學性能與服役壽命。樣品在研磨、拋光、清...

02

2026

-

06

MEMS結構臺階高度偏差的白光干涉儀干法刻蝕制程排查研究

臺階高度是MEMS微結構核心尺寸參數，直接決定微懸臂梁、傳感腔體等結構的裝配精度與使用性能。干法刻蝕作為MEMS晶圓制備核心制程，腔體真空度、射頻功率、氣體流量的...

• 共75頁
• 首頁
• 上一頁
• ...
• 35
• 36
• 37
• 38
• 39
• 40
• 41
• 42
• 43
• 44
• ...
• 下一頁
• 尾頁