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          新啟航半導體有限公司


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          2026
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          07
          COB 封裝全流程制程質控,通過光學 3D 輪廓儀篩查 CM...
          板上芯片封裝(Chip On Board, COB)是CMOS影像傳感器(CMOS Image Sensor, CIS)模組的核心封裝工藝。制程中固晶(Die B...
          COB 封裝全流程制程質控,通過光學 3D 輪廓儀篩查 CMOS 感光芯片板面翹曲(Warpage)缺陷
          08
          2026
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          高溫高壓硬密封球閥密封面平面度(Sealing Surfac...
          摘要:針對高溫高壓硬密封球閥(High-temperature and High-pressure Hard-sealed Ball Valve)密封面熱變形、平...
          高溫高壓硬密封球閥密封面平面度(Sealing Surface Flatness)的光學輪廓測量研究
          08
          2026
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          MEMS 晶圓平面度 (Wafer Flatness)形變異...
          MEMS晶圓量產制程中,頻繁出現晶圓平面度(Wafer Flatness)超差、局部翹曲形變異常問題,直接引發光刻對位偏移、薄膜沉積均勻性失效,導致批量產品良率下...
          MEMS 晶圓平面度 (Wafer Flatness)形變異常,白光干涉儀鎖定內應力 (Internal Stress) 缺陷制定整改方案
          07
          2026
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          共聚焦顯微鏡粗糙度偏差解析
          在半導體、超精密制造領域,表面粗糙度測量精度直接決定產品質量與服役性能。本文聚焦激光共聚焦顯微鏡(LCM)實測粗糙度數據偏差、重復性差的行業共性問題,結合ISO官...
          共聚焦顯微鏡粗糙度偏差解析
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